Loading…
Academic Journal
Deposition features of ferroelectric thin films at high-frequency magnetron sputtering
J. E. Okojie, D. A. Golosov
Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki, Vol 0, Iss 4, Pp 87-93 (2019)
Saved in:
| Title | Deposition features of ferroelectric thin films at high-frequency magnetron sputtering |
|---|---|
| Authors | J. E. Okojie, D. A. Golosov |
| Publication Year |
2019
|
| Source |
Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki, Vol 0, Iss 4, Pp 87-93 (2019)
|
| Description |
Получены профили распределения скорости нанесения при высокочастотном (ВЧ) магнетронном распылении сегнетоэлектрических мишеней танталата стронция-висмута (SBT) и ниобата-танталата стронция висмута (SBTN) в Ar/O2 смеси газов. Установлено, что при распылении SBT и SBTN мишеней в центре зоны распыления скорость нанесения значительно превышает скорость нанесения, характерную для распыления на постоянном токе, что является следствием генерации в разрядной зоне магнетрона отрицательно заряженных ионов. Предложена модель расчета распределения толщины наносимых пленок при ВЧ магнетронном распылении, которая учитывает поток формирующихся отрицательно заряженных ионов.
|
| Document Type |
article
|
| Language |
Russian
|
| Publisher Information |
Educational institution «Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics», 2019.
|
| Subject Terms | |
